6 尺寸要求
本節(jié)描述HDI印制板的尺寸精度的特別要求,包括板材、導線、孔等。尺度特性需用帶刻度的≥30倍的放大系統(tǒng)作精確的測量和檢驗。
6.1 板材厚度要求及公差
6.1.1 芯層厚度要求及公差
缺省板材為FR-4覆銅板,其厚度要求及公差要求依據(jù)Q/DKBA3178.1《剛性PCB檢驗標準》。
6.1.2 積層厚度要求及公差
缺省積層介質為65~80um的RCC,壓合后平均厚度≥40um,最薄處≥30um。
若設計文件規(guī)定積層厚度,其厚度公差依據(jù)Q/DKBA3178.1《剛性PCB檢驗標準》。
6.2 導線公差
導線寬度以線路底部寬度為準。其公差要求如下表所示:
表6.2-1 導線精度要求
線寬 |
公差 |
3 mils |
±0.7 mils |
≥4 mils |
± 20% |
6.3 孔徑公差
表6.3-1 孔徑公差要求
類型 |
孔徑公差 |
備注 |
微孔 |
±0.025mm |
微孔孔徑為金屬化前直徑。如下圖 “A” |
機械鉆孔式埋孔 |
±0.1mm |
此處“孔徑”指成孔孔徑 |
其他類型 |
參考Q/DKBA3178.1《剛性PCB檢驗標準》 |
|
圖6.3-1 微孔孔徑示意圖
6.4 微孔孔位
微孔允許與Target Pad及Capture Pad相切,但不允許破盤。
圖6.4-1 微孔孔位示意圖
7 結構完整性要求
結構完整性要求需在熱應力(Thermal stress)試驗后進行,熱應力試驗方法:依據(jù)IPC-TM-650-2.6.8條件B進行。除非特殊要求,要經(jīng)過5次熱應力后切片。
金相切片的制作要求依照IPC-TM-650-2.1.1或2.1.1.2進行,垂直切片至少檢查3個孔。金相切片的觀察要求在100X ±5%的放大下進行,評判時在200X ±5%的放大下進行,鍍層厚度小于1um時不能用金相切片技術來測量。
7.1 鍍層完整性
[1] 金屬鍍層無裂紋、分離、空洞和污染物;
[2] 微孔底部和Target Pad之間不允許出現(xiàn)未除盡的膠渣或其他雜質。
7.2 介質完整性
測試后無剝離、氣泡、分層、軟化等現(xiàn)象。
7.3 微孔形貌
[1] 微孔直徑應滿足:B≥0.5×A
圖7.3-1 微孔形貌
(注:A—微孔頂部電鍍前直徑;B—微孔底部電鍍前直徑。)
[2] 微孔孔口不允許出現(xiàn)“封口”現(xiàn)象:
圖7.3-2 微孔孔口形貌
7.4 積層被蝕厚度要求
若采用Large Windows方式,積層介質在工藝過程中(如Desmear)被蝕厚度H≤10um。
圖7.4-1 積層被蝕厚度
7.5 埋孔塞孔要求
埋孔不能有可見空洞,凸、凹現(xiàn)象不能影響介質厚度的要求。
8 其他測試要求
8.1 附著力測試
表8.1-1 附著力測試要求
序號 |
測試目的 |
測試項目 |
測試方法 |
性能指標 |
備注 |
1 |
綠油附著力 |
膠帶測試 |
同《剛性PCB檢驗標準》 |
同《剛性PCB檢驗標準》,且不能露銅 |
需關注BGA塞孔區(qū) |
2 |
金屬和介質附著力 |
剝離強度(Peel Strength) |
IPC-TM-650 2.4.8 |
≥5Pound/inch |
|
3 |
微孔盤浮離(Lift lands) |
熱應力測試(Thermal Stress) |
IPC-TM-650 2.6.8條件B |
5次測試后無盤浮離現(xiàn)象 |
|
4 |
表面安裝盤和NPTH孔盤附著力 |
拉脫強度測試(Bond Strength) |
IPC-TM-650-2.4.21.1 |
≥2kg或2kg/cm2 |
|
9 電氣性能
9.1 電路
絕緣性:線間絕緣電阻大于10MΩ;測試用的網(wǎng)絡電壓要能提供足夠的電流,但不能引起網(wǎng)絡間飛弧;最小測試電壓≥40V。
9.2 介質耐電壓
依照IPC-TM-650-2.5.7進行測試,要求耐壓1000VDC,且在導體間沒有閃光、火花或擊穿。
10 環(huán)境要求
10.1 濕熱和絕緣電阻試驗
依照IPC-TM-650-2.6.3進行測試,經(jīng)過濕熱加壓環(huán)境后,絕緣電阻≥500MΩ。
10.2 熱沖擊(Thermal shock)試驗
依照IPC-TM-650-2.6.7.2進行測試,默認條件為Test Condition D,溫度循環(huán)為-55~+125℃,樣片的電氣性能首先要滿足要求;測試結果要求導體電阻變化≤10%。
11 特殊要求
HDI印制板若有其他特殊要求時,如Outgassing、有機污染(Organic contamination)、抗菌(Fungus resistance)、抗振動(Vibration)、機械沖擊,則依據(jù)IPC-6012進行。
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